空氣凈化技術的發(fā)展與應用
來源：山東康德萊凈化工程有限公司 日期：2019-9-23
縱觀國內外空氣凈化技術的發(fā)展史，都是伴隨著產品的可靠性、加工工藝的精密化、產品的微型化以及產品的高純度等要求而不斷地發(fā)展的。無論是在陀螺儀制造過程中應用空氣凈化技術，提高了勞動生產率和延長了產品的使用壽命，還是在戰(zhàn)爭中發(fā)現(xiàn)電子儀器失靈的原因是灰塵作怪；無論是發(fā)射探索太空，還是阿波羅登月科技競爭；無論是1k位集成電路的大規(guī)模生產，還是產品的微型化需求使集成度越來越高，發(fā)展超大規(guī)模的集成電路，集成度從1k位發(fā)展到1m、1km、4km、16km······；無論是控制無生命的微粒，還是控制有生命的微粒；無論是航天、軍方產品的需求，還是民用產品和家庭生活的需求······?？諝鈨艋夹g就是在這種需求、滿足、更高的需求、更好地滿足中不斷地發(fā)展，應用領域不斷的地延伸。
國際上空氣凈化技術的發(fā)展經歷了以下階段：
在20世紀20年代，美國航空業(yè)的陀螺儀制造過程中提出了生產環(huán)境的凈化要求。在制造車間、實驗室建立了“控制裝配區(qū)”，供給一定量的過濾后的空氣。在朝鮮戰(zhàn)爭中，美國找到了電子儀器出故障的主要原因是灰塵作怪，而促成了空氣凈化技術的起步。
1957年，前蘇聯(lián)顆人造的升空，---了美國加速發(fā)展宇航事業(yè)，制定了阿波羅登月計劃，其電子控制儀器和精密機械加工環(huán)境均要求凈化，因而促進了凈化技術的大發(fā)展，建造了百級潔凈室，誔生個潔凈室標準。
1970年，1k位的集成電路開始大規(guī)模生產，使凈化技術的發(fā)展突飛猛進。20世紀80年代，大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的生產，使空氣凈化技術有了進一步的發(fā)展，集成電路的最細光刻線寬達到2~3um。在70年代末和80年代初，美國、日本研制出0.1um級空氣過濾器，為潔凈度的提高創(chuàng)造了條件。
在20世紀90年代，超大規(guī)模集成電路的生產有了新的進展，最細光刻線寬由80年代的微米級發(fā)展到亞微米級。到20世紀末，要求達到0.1~0.2um，集成度達到1km。集成電路的集成度越高，要求的光刻線寬就越小，則要求控制的塵粒粒徑就越小，塵粒數(shù)量也越少。如今，要求0.1um10級的潔凈度已經很普遍，將來要求的潔凈度會更高，潔凈室的應用領域會更加寬廣。
